Fotopolimerização radicalar controlada (CRP2) e aplicação em impressão 3D usando novos complexos de Ni(II)

Resumo

Complexos de Ni(II) serão sintetizados para catalisar a Fotopolimerização Radical Controlada(PCR2). A proposta se desenvolve em três etapas, que estão completamente interligadas no processo de desenvolvimento. Inicialmente, a atenção será direcionada para os complexos de Ni(II) contendo Base de Schiff e síntese de ligantes de NHCs não simétricos. Novos complexos de Ni(II) serão caracterizados por técnicas de FTIR, UV-Vis, Voltametria Cíclica, EPR, 1H e 13C NMR, análise elementar e espectrometria de massa. A segunda etapa será dedicada à avaliação das propriedades fotoquímicas dos complexos de bases níquel-NHC e Schiff. Consequentemente ,a alta reatividade desses compostos será demonstrada através de algumas gravações diretas a laser experimentos, onde serão obtidos padrões 3D de alta resolução espacial. Portanto, esta pesquisa abre caminho para o desenvolvimento de novos fotocatalisadores organometálicos em CRP2 assim como suas aplicações em impressão 3D. (AU)